微弧氧化
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微弧氧化工艺及技术特点

发布日期:2019-12-03 作者: 点击:

微弧氧化是轻金属在其特定的电解液及电场条件下,原位生长陶瓷膜的新技术。其原理是将Al、Mg、Ti等轻金属或其合金置于电解质水溶液中作为阳极,利用电化学方法在该材料的表面产生火花放电斑点,在热化学、等离子体化学和电化学的共同作用下,获得金属氧化物陶瓷层的一种表面改性技术。


微弧氧化处理形成的陶瓷氧化膜,与基体呈冶金结合,膜层致密,具有良好的耐磨、耐蚀性能。 氧化膜的硬度一般能达到600-1500HV(膜层厚度20-50μm),耐磨性能优于硬质阳极化膜及电镀硬铬。封孔后耐盐雾试验水平可达2000小时以上。该氧化膜还具有良好的绝缘性,耐500V以上的高压冲击,且有效防止电偶腐蚀;氧化膜还具有良好的隔热特性,是铝合金活塞的首选。


氧化膜表面有很多微孔,多为盲孔,表面组织形貌见图1,2。该组织形貌,非常有利于后续涂装,它能使有机涂层深入氧化膜的微孔中形成“抛锚效应”,大大提高了有机涂层的结合力。


微弧氧化处理工艺简单,流程短。不需要对工件进行复杂的前处理,氧化过程无污染。电解液成分以食品添加剂为主,无毒无害且长效,生产过程中无需更换。清洗废水可作为电解液补加水,处理过程基本无废水排放。


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